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中頻爐熔煉爐-感應直流電分布

發(fā)布時間:2021-05-18 已經(jīng)有1人查過此文章 返回感應熔煉列表

中頻爐熔煉爐加熱過程中存在著感應直流電分布和交流電效應,而感應直流電在超導體(非金屬爐料)上的分布不均勻,受到集膚效應、靠近效應和環(huán)形效應的影響。

中頻爐熔煉爐

②中頻爐熔煉爐的集膚作用。

受熱非金屬超導體內(nèi)的感應直流電絕大全集合,直流電密度從表層到表層迅速衰減,這種現(xiàn)象稱為表層效應。因此,直流電密度在名義范圍內(nèi)較大,在中心范圍內(nèi)較小,其分布直線如將直流電密度衰減到名義范圍內(nèi)直流電密度的1/e(約0.368)處,即直流電滲透深度δ。e=2.718,做作關于數(shù)字的底部。按照實際計算,當感應加熱時,86.5%的電力是通過直流電滲透到深層內(nèi)部轉化成熱量。直流電滲透到深淺的5倍(即5δ)處,直流電接近于零。

中頻爐熔煉爐出爐

可用下式表示直流電滲透深淺δ:

Δ=5030√ρ/μf(cm)

公式中ρ-熱傳導數(shù)據(jù)電阻率,Ω?公分;

超導體數(shù)據(jù)的優(yōu)勢在于超導體的磁導率;

F-直流電的頻率。

從上面的公式可以看出,f越大,δ越小,ρ越大,δ越大。α隨著測量值的降低而減小,因此在感應加熱過程中,Δ值將增加。

 

二是中頻爐熔煉爐靠近效應。

這就是“挨近效應”,即當兩個有交流電的超導體彼此靠近,并且正反響時,兩個超導體的直流電重新分布。其本質(zhì)類似于集膚效應。在交流電的條件下,兩平行超導體通過電場和直流電的分布。由于挨近效應,當載有反向直流電的兩個超導體平行挨近時,當載有同向直流電的兩個超導體平行挨近時,直流電傾向超導體在其內(nèi)側。靠近效應導致超導體無效截面的利用率增加。超導電體之間的距離越近,靠近效應越明顯。無均勻的直流電密度分布,與自身電場和所有靠近的超導體電場的總作用有關③圓環(huán)效應。

在中頻爐熔煉爐交流電使用過螺線管(或環(huán)形線圈)時,線圈超導體的內(nèi)部出現(xiàn)了較大的直流電密度,這一現(xiàn)象稱為環(huán)形效應,中頻爐是對上面所使用的各種效應的剖析。將非金屬爐料置于環(huán)形傳感器中。電感的兩端施加交流電壓時,就是發(fā)作交變電場。此時感應器自身表現(xiàn)為環(huán)形效應,感應器與非金屬爐料之間表現(xiàn)為近鄰效應,而非金屬爐料則表現(xiàn)為集膚效應。


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